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拓荆创益申请密封圈筛选装置专利,提升密封圈筛选效率

2026年07月12日 10:40
 

国家知识产权局信息显示,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请一项名为“密封圈筛选装置及密封圈处理装置”的专利,公开号CN121360708A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本发明提供了一种密封圈筛选装置和密封圈处理装置。该密封圈筛选装置包括底座、可调盖板组件以及测量组件。所述底座的顶部开设有环形凹槽,用于容纳密封圈;所述可调盖板组件覆盖在所述环形凹槽上方;所述测量组件固定在所述底座的一侧,所述测量组件根据所述密封圈的形变恢复情况筛选出可重复使用的密封圈。该密封圈处理装置包括箱体以及位于该箱体内的密封圈筛选装置。

天眼查资料显示,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司,成立于2023年,位于沈阳市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司参与招投标项目26次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息447条,此外企业还拥有行政许可16个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。